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集成電路布圖設(shè)計權(quán)概述

(一)概念

集成電路布圖設(shè)計權(quán)(以下簡稱布圖設(shè)計權(quán))是指布圖設(shè)計的創(chuàng)作人或其他權(quán)利人對布圖設(shè)計所享有的權(quán)利。布圖設(shè)計權(quán)屬于一類新型的知識產(chǎn)權(quán)，既非著作權(quán)，也非專利權(quán)，有著不同于二者的特征，但又與著作權(quán)和專利權(quán)有著密切的聯(lián)系。

(二)布圖設(shè)計權(quán)與著作權(quán)

二者的聯(lián)系表現(xiàn)在:(1)二者都是知識產(chǎn)權(quán)，保護的客體都具有無形性，必須通過一定的載體才能體現(xiàn)出來。且布圖設(shè)計的表現(xiàn)方式與作品的某些表現(xiàn)方式相同。(2)二者都以復(fù)制權(quán)作為主要權(quán)利內(nèi)容。(3)二者都要受一定的權(quán)利限制。著作權(quán)有合理使用、法定許可、強制許可等規(guī)定，對于布圖設(shè)計權(quán)也有類似的權(quán)利限制規(guī)定。

二者的區(qū)別表現(xiàn)在:(1)著作權(quán)包括人身權(quán)和財產(chǎn)權(quán)，而布圖設(shè)計權(quán)的人身性極弱，僅表現(xiàn)為署名權(quán)而已。(2)就財產(chǎn)權(quán)內(nèi)容而言，二者也存在區(qū)別。著作權(quán)中的財產(chǎn)權(quán)以復(fù)制權(quán)為主要內(nèi)容，著作權(quán)法主要保護作品不被他人非法復(fù)制，并不禁止他人實施作品內(nèi)容的行為。而布圖設(shè)計權(quán)除了包括復(fù)制權(quán)外，還包括商業(yè)利用權(quán)。具體而言，不僅禁止他人非法復(fù)制布圖設(shè)計，而且禁止他人以營利為目的非法實施布圖設(shè)計。(3)二者的客體不同。布圖設(shè)計權(quán)的客體是集成電路產(chǎn)品中的布圖設(shè)計，屬于技術(shù)領(lǐng)域中具有實用性的設(shè)計。而著作權(quán)的客體一般不具有實用性。(4)二者授予權(quán)利的條件不同。對于作品而言，只要其具備獨創(chuàng)性條件，即可獲得著作權(quán)，而不要求該項作品有任何較先前作品進步的“創(chuàng)造性”。而布圖設(shè)計若要獲得保護則必須具備一定的創(chuàng)造性。(5)二者在權(quán)利取得和保護方式上不同。對布圖設(shè)計的保護，大多數(shù)國家實行登記保護制度。而對于著作權(quán)一般采用自動保護主義，其取得無需經(jīng)登記程序。

(三)布圖設(shè)計權(quán)與專利權(quán)

二者的聯(lián)系表現(xiàn)在:(1)二者的客體都是技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的成果，具有實用性，能夠在工業(yè)中被利用，并都能產(chǎn)生積極的效果。(2)布圖設(shè)計權(quán)除了可以獲得專門法方式的保護外，只要其符合專利要求，還可以同時獲得專利法的保護。

二者的區(qū)別表現(xiàn)在:(1)權(quán)利獲得的條件不同。一項發(fā)明創(chuàng)造要取得專利權(quán)，必須具備新穎性、創(chuàng)造性和實用性。而布圖設(shè)計無需達到如此高的要求，其只要具備獨創(chuàng)性和非顯而易見性即可。顯然二者在創(chuàng)造性的要求上有高低之別。(2)權(quán)利性質(zhì)不同。專利權(quán)是一種具有獨占和排他效力的專有權(quán)利，一項發(fā)明創(chuàng)造只能授予一個專利權(quán)，這是法律對專利所提供的一種較強的保護。布圖設(shè)計權(quán)則不然，法律雖然也基于布圖設(shè)計的一定創(chuàng)造性而給予較之于著作權(quán)法更強的保護，但其保護水平較之專利仍要低一個層次，布圖設(shè)計權(quán)人一般不能排除他人使用通過獨立創(chuàng)作而得到的相同的布圖設(shè)計。對自己獨立創(chuàng)作的與他人相同的布圖設(shè)計進行復(fù)制或者將其投入商業(yè)利用的，可以不經(jīng)布圖設(shè)計權(quán)利人許可，亦無需向其支付報酬。

綜上所述，布圖設(shè)計權(quán)是介于著作權(quán)和專利權(quán)之間的一類新型知識產(chǎn)權(quán)。之所以說其介于二者之間，有兩個原因:首先，就權(quán)利取得的條件而言，布圖設(shè)計須具備一定的創(chuàng)造性，這比僅需滿足獨創(chuàng)性條件的作品要嚴(yán)格，但其所需達到的創(chuàng)造性高度又比專利的要求更低。其次，就法律的保護程度而言，布圖設(shè)計所獲得的保護恰恰介于二者之間，一方面，布圖設(shè)計權(quán)除了包括復(fù)制權(quán)外，還包括對布圖設(shè)計的商業(yè)利用權(quán)，其所獲得的保護程度比作品高;另一方面，布圖設(shè)計權(quán)人又不能對布圖設(shè)計享有像專利權(quán)那樣的獨占性專有權(quán)，其受保護程度又比專利低。因此，布圖設(shè)計權(quán)也被稱為介于著作權(quán)和專利權(quán)之間的“工業(yè)版權(quán)”。

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